典型文献
电沉积制备纳米金-石墨烯复合材料修饰电极测定氨苄西林
文献摘要：
采用一步电沉积法在抛光处理后的玻碳电极表面制备纳米金-还原氧化石墨烯(AuNPs-rGO)复合材料,利用循环伏安法和电化学阻抗法研究AuNPs-rGO复合材料的电化学性质,并将其应用于氨苄西林分子印迹电化学传感器的构建中.结果表明:采用一步电沉积法制备的AuNPs-rGO复合材料具有制备过程简单可控,避免使用强还原剂带来污染的优点,仅需250 s就可在玻碳电极表面制备出导电性好、稳定性高的AuNPs-rGO复合材料.将其应用于氨苄西林分子印迹电化学传感器的构建可有效提高传感器的检测灵敏度和稳定性,实现氨苄西林的快速、灵敏检测.传感器的线性范围为3.00×10-9～7.00×10-6 mol·L-1,最低检出限为1.26×10-9 mol·L-1(S/N=3).
文献关键词：
电沉积;纳米金;石墨烯;氨苄西林
中图分类号：
作者姓名：
赵晶;刘诗伟;杨雨欣;罗佳;谢婧;廉文静
作者机构：
天津农学院基础科学学院,天津300384
文献出处：
引用格式：
[1]赵晶;刘诗伟;杨雨欣;罗佳;谢婧;廉文静-.电沉积制备纳米金-石墨烯复合材料修饰电极测定氨苄西林)[J].电镀与精饰,2022(11):41-46
A类：
强还原剂
B类：
纳米金,石墨烯复合材料,修饰电极,氨苄西林,一步电沉积,电沉积法,抛光处理,玻碳电极,表面制备,还原氧化石墨烯,AuNPs,rGO,循环伏安法,电化学阻抗法,电化学性质,林分,分子印迹电化学传感器,制备过程,导电性,检测灵敏度,线性范围,低检出限
AB值：
0.211276
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