典型文献
单分散Ni簇锚定在CN上用于高效光催化析氢
文献摘要:
利用太阳光在常温常压下驱动光催化反应高效进行是解决人类面临的能源、环境问题从而实现绿色化学的理想方案之一.然而,兼顾效率、成本和稳定性的高性能光催化体系的研究依然存在巨大的挑战.石墨氮化碳(g-C3N4)基光催化剂由于高稳定性、无毒无害和适合的能带结构,在光催化制氢方面存在巨大潜力.然而,表面的慢反应速率导致了光生电子和空穴的快速复合,限制了其实际引用.而助催化剂的负载对光催化反应起着至关重要的作用.首先,助催化剂能降低光催化反应的过电势;其次,能加快界面的电荷分离和迁移并提供更多的活性位点;最后,还可以抑制光腐蚀并且增强光催化剂的稳定性等.因此,开发合适的助催化剂提高表面反应速率对高效光催化制氢极为重要.助催化剂的研究急需新的设计思路,需要同时满足以下条件:(1)助催化剂定向锚定在半导体的电子富集区域捕获电子;(2)与半导体界面形成强且稳定的界面相互作用转移表面电荷;(3)高度分散的非贵金属助催化剂.本文以具有天然表面官能团和空隙的超薄氮化碳纳米片作为载体,设计了光化学还原制备单分散的镍原子簇新策略,可同时满足沉积在电子富集区域、高度分散的非贵金属、界面结合作用强的要求.高角度环形暗场扫描透射电镜、X射线吸收近边缘结构和扩展X射线吸收精细结构结果表明,单分散的过渡金属Ni簇活性位点锚定在石墨氮化碳上.原位光化学还原沉积法制备单分散的Ni簇锚定在石墨氮化碳表面的复合光催化剂,可以实现高效的光催化反应制氢活性,光催化制氢速率达到16.5 mmol·h-1·g-1,并且展现出461.14 h-1的总周转频率(TOF(H2))值,说明单分散的Ni簇提供了大量的活性位点和极大地提高了金属原子利用率.Ni-cluster/CN的C K边缘XAS光谱、N K边缘XAS光谱、XPS光谱和理论计算结果表明,基底物质石墨氮化碳可与单分散的Ni簇形成强且稳定的界面相互作用,其中C可充当电子受体,N可充当电子供体.光致发光光谱、荧光寿命、瞬态光电流、表面光电压和电化学阻抗表明,强且稳定的界面相互作用有效地促进了光生电子和空穴的分离和迁移.本文可为原位光沉积法制备单分散稳定的Ni簇助催化剂、研究助催化剂与半导体载体之间稳定的界面相互作用及用于高效光催化反应提供借鉴.
文献关键词:
单分散Ni簇;氮化碳;界面相互作用;光催化析氢
中图分类号:
作者姓名:
蹇亮;张会珍;刘冰;潘成思;董玉明;王光丽;钟俊;郑永杰;朱永法
作者机构:
江南大学化学与材料工程学院, 光响应功能分子材料国家级国际联合研究中心, 江苏无锡214122;苏州大学功能纳米与软材料研究所, 江苏省碳基功能材料与器件重点实验室, 江苏苏州215123;中国冶金地质总局青岛地质勘查院, 山东青岛266109;清华大学化学系, 北京100084
文献出处:
引用格式:
[1]蹇亮;张会珍;刘冰;潘成思;董玉明;王光丽;钟俊;郑永杰;朱永法-.单分散Ni簇锚定在CN上用于高效光催化析氢)[J].催化学报,2022(02):536-545
A类:
B类:
单分散,锚定,CN,光催化析氢,太阳光,常温常压,光催化反应,绿色化学,催化体系,石墨氮化碳,C3N4,高稳定性,无毒,无害,能带结构,光催化制氢,巨大潜力,反应速率,光生电子,空穴,速复,低光,过电势,电荷分离,活性位点,光腐蚀,强光,高表面,表面反应,要同,富集区,界面相互作用,表面电荷,非贵金属助催化剂,表面官能团,空隙,超薄,氮化碳纳米片,光化学,化学还原,原子簇,簇新,界面结合,高角,暗场,扫描透射电镜,边缘结构,精细结构,过渡金属,复合光催化剂,应制,制氢速率,周转,TOF,H2,极大地提高,cluster,XAS,XPS,底物,充当,电子受体,电子供体,光致发光光谱,荧光寿命,瞬态,光电流,表面光,电化学阻抗,原位光沉积,光沉积法
AB值:
0.251566
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