典型文献
基于外部气相沉积工艺的新型大有效面积非零色散位移光纤的设计与制备
文献摘要：
采用一种具有中心凹陷的三角芯+环型的折射率剖面设计,利用外部气相沉积(OVD)工艺制备了新型非零色散位移G.655.D光纤.实验结果表明:在1550 nm和1625 nm波长处,光纤的衰减值分别为0.195 dB/km和0.203 dB/km,截止波长为1200 nm;将光纤绕在半径为25 mm的圆柱体上100圈,此时其在1550 nm和1625 nm波长处的宏弯损耗值分别低于0.027 dB和0.045 dB;该光纤在1530～1625 nm波段的色散为1.6～9.5 ps/(nm·km),尤其是在1550 nm波长处,其有效面积达到72μm2,比常规G.653光纤大1.4倍.通过这种设计和方法制备的光纤可以实现零色散波长的平移,获得良好的纵向色散均匀性、较低的弯曲损耗以及较大的有效面积,适用于1530～1625 nm波段的密集波分复用应用,在长距离光纤通信中对四波混频(FWM)、交叉相位调制(XPM)等非线性效应具有较好的抑制作用,可以减少色散管理成本,具有非常重要的应用价值.
文献关键词：
光纤光学;外部气相沉积工艺;G.655.D光纤;大有效面积;非零色散位移;密集波分复用;光纤设计与制造
中图分类号：
作者姓名：
查健江;陈强;兰兴铃;张俊;文建湘
作者机构：
山东富通光导科技有限公司,山东济南250119;成都富通光通信技术有限公司,四川成都611731;上海大学特种光纤与光接入网省部共建国家重点实验室培育基地/特种光纤与先进通信国际合作联合实验室,上海200444
文献出处：
引用格式：
[1]查健江;陈强;兰兴铃;张俊;文建湘-.基于外部气相沉积工艺的新型大有效面积非零色散位移光纤的设计与制备)[J].中国激光,2022(23):141-149
A类：
外部气相沉积工艺,非零色散位移,光纤设计与制造
B类：
大有效面积,中心凹陷,环型,折射率剖面,剖面设计,OVD,工艺制备,长处,减值,dB,截止波长,圆柱体,宏弯损耗,波段,ps,色散波,平移,弯曲损耗,密集波分复用,长距离,光纤通信,四波混频,FWM,交叉相位调制,XPM,非线性效应,色散管理,管理成本,光纤光学
AB值：
0.323789
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