典型文献
半导体硅材料的杂质及其纯度计算
文献摘要：
主要阐述硅材料在不同领域扮演着举足轻重的作用,随着新能源和电子信息时代的发展,硅材料对推动信息化革命至关重要.从硅材料的应用研究方向出发,参考GB/T 12963—2014《电子级多晶硅》,以众多科研工作者的研究为基础,综合考虑基体金属、表面金属、电阻率、碳浓度和氧浓度,对半导体硅材料纯度的影响,经研究表明,在一定杂质含量的基础上,以影响电阻率的施受主杂质浓度计算半导体硅材料的纯度是可信的,采用重量占比和原子占比2种不同的方式计算电子一级多晶硅纯度为99.9999999835％,纯度表示为9N,当施受杂质浓度小于10 ppta时,硅的纯度为99.999999999228％,纯度最低表示为11N.综上所述,以影响电阻率的施受主杂质浓度计算半导体硅材料的纯度,那么半导体材料的纯度最低要求为9N,随着半导体行业的需求,其纯度将可达11N.
文献关键词：
半导体;电阻率;纯度;计算;表示方法
中图分类号：
作者姓名：
李朋飞;徐岩
作者机构：
陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司,陕西 榆林 719200
文献出处：
引用格式：
[1]李朋飞;徐岩-.半导体硅材料的杂质及其纯度计算)[J].科技创新与应用,2022(34):71-74
A类：
电子级多晶硅,ppta,11N
B类：
体硅,硅材料,电子信息时代,科研工作,电阻率,氧浓度,杂质含量,杂质浓度,浓度计,9N,综上所述,半导体材料,半导体行业,表示方法
AB值：
0.17467
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