典型文献
制备方法对ZnO纳米薄膜微结构及光电性能的影响研究
文献摘要：
本实验分别采用射频磁控溅射法和电子束蒸发法在普通玻璃衬底上制备ZnO薄膜样品,并对样品的外观形貌、微观形貌及结构、光电性能进行测试和表征.测试结果表明,磁控溅射制备的薄膜呈透明状,薄膜平整致密,晶粒比较大,缺陷浓度比较少,薄膜中晶粒沿ZnO(002)晶面择优取向生长,薄膜可见光区透过率达88.74％,但薄膜导电性能比较弱,且薄膜生长速率也比较小.而电子束蒸发制备的ZnO薄膜呈棕黄色,薄膜晶粒比较小,缺陷浓度比较大,薄膜中晶粒沿ZnO(102)晶面择优取向生长,薄膜在可见光区的透过率只有29.16％,但薄膜导电性能和生长速率大大超过磁控溅射的薄膜样品.另外,磁控溅射的薄膜样品纯度比较高,而电子束蒸发制备的样品中容易混入坩埚成分的杂质.
文献关键词：
ZnO纳米薄膜;磁控溅射;电子束蒸发;微观形貌及结构;光电性能
中图分类号：
作者姓名：
陈真英;李飞
作者机构：
北部湾大学 理学院,广西 钦州 535011
文献出处：
引用格式：
[1]陈真英;李飞-.制备方法对ZnO纳米薄膜微结构及光电性能的影响研究)[J].科技创新与应用,2022(17):19-22
A类：
B类：
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AB值：
0.247173
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