典型文献
高纯溅射靶材专利技术分析
文献摘要：
1.概述
溅射属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,其工作原理是在真空中利用离子源产生的高速离子束流轰击溅射靶材表面,高速离子束中离子和靶材表面的原子产生动能交换,使得靶材表面的原子离开靶材表面并沉积在基底表面.利用各种高纯单质贵金属及新型合金及化合物制得的功能薄膜则为高纯溅射靶材.21世纪以来,新型溅射技术出现,使得高纯金属溅射靶材成为热点材料.
文献关键词：
中图分类号：
作者姓名：
赵飞飞;赵勇
作者机构：
国家知识产权局专利局专利审查协作天津中心
文献出处：
引用格式：
[1]赵飞飞;赵勇-.高纯溅射靶材专利技术分析)[J].中国科技信息,2022(14):58-60
A类：
B类：
溅射靶材,专利技术分析,物理气相沉积,PVD,离子源,离子束,束流,轰击,单质,贵金属,功能薄膜,高纯金属
AB值：
0.241382
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