典型文献
磺酸基与羧基修饰纳米二氧化硅:两种阴离子型纳米指纹显现材料的制备与应用
文献摘要：
通过反相微乳液法制备包埋[Ru(bpy)3]2+的纳米SiO2,赋予指纹显现试剂高效光致发光性能和绿色环保优势;尝试使用氨基前驱体和氨解反应两步法,制得羧基表面修饰的纳米SiO2;通过巯基前驱体和氧化反应两步法,制得磺酸基表面修饰的纳米SiO2,并综合比较了羧基修饰和磺酸基修饰两种表面修饰路径的效果.实验结果表明,染料和包埋产物的紫外可见区吸收峰值分别在452.43 nm和476.06 nm,羧基修饰和磺酸基修饰纳米SiO2的平均粒径约为40 nm,DLS粒径分别为122.4 nm和110.1 nm,Zeta电位分布峰值分别为-33.16 mV和-34.99 mV,两种体系对于悬浮液酸碱度的敏感程度存在差异,正交试验考察两种材料显现潜在指纹的最佳条件分别为稀释比例1:3、pH值2.9、浸显时间5 min,稀释比例1:5、pH值3.5、浸显时间5 min.此复合材料具有良好的显现效率和安全性.
文献关键词：
指纹;纳米二氧化硅;荧光;小颗粒悬浮液
中图分类号：
作者姓名：
陈煜太;黄威;姜红;李珊;王元凤
作者机构：
中国政法大学证据科学教育部重点实验室,北京100080;中国人民公安大学侦查学院,北京100038;公安部物证鉴定中心,北京100038
文献出处：
引用格式：
[1]陈煜太;黄威;姜红;李珊;王元凤-.磺酸基与羧基修饰纳米二氧化硅:两种阴离子型纳米指纹显现材料的制备与应用)[J].材料导报,2022(05):1-7
A类：
小颗粒悬浮液
B类：
磺酸基,羧基,纳米二氧化硅,阴离子,离子型,指纹,制备与应用,反相微乳液法,包埋,Ru,bpy,2+,SiO2,光致发光,发光性能,尝试使用,前驱体,氨解反应,两步法,表面修饰,巯基,氧化反应,染料,吸收峰,平均粒径,DLS,Zeta,电位分布,mV,酸碱度,敏感程度,最佳条件,稀释比例
AB值：
0.301358
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