典型文献
预氧化真空度对冷喷涂CoNiCrAlY涂层高温氧化行为的影响
文献摘要：
利用冷喷涂技术制备了CoNiCrAlY涂层,并对涂层进行了不同真空度下的预氧化处理.结合XRD、SEM和EDS等方法研究了预氧化处理真空度对CoNiCrAlY涂层在1050℃下氧化行为的影响.结果表明,冷喷涂CoNiCrAlY涂层含氧量为0.12％(质量分数),孔隙率小于0.36％(体积分数).真空预氧化处理提高了涂层致密度,使涂层由γ-Matrix单相结构转变为γ-Matrix和β-(Ni,Co)Al双相结构,并在涂层表面生成连续、致密的α-Al2 O3单一氧化膜.高温氧化过程中,涂层表面TGO的生长速度随预氧化处理时真空度的减小而降低.当真空度小于或等于10-3 Pa时,预氧化处理时的真空度对涂层表面TGO的生长速度影响较小.真空预氧化处理使涂层氧化过程中形成的Al2 O3膜具有更大的晶粒和更少的缺陷,减少了Al元素和O元素进行扩散的晶界面积,从而降低了Al2 O3的生长速度并抑制了尖晶石氧化物的形成,提高了冷喷涂CoNiCrAlY涂层的抗氧化性能.
文献关键词：
CoNiCrAlY涂层;冷喷涂;热生长氧化物;预氧化
中图分类号：
作者姓名：
张林伟;余玖明;宁先进;王全胜
作者机构：
江西省科学院应用物理研究所,南昌 330029;北京理工大学材料学院,北京 100081
文献出处：
引用格式：
[1]张林伟;余玖明;宁先进;王全胜-.预氧化真空度对冷喷涂CoNiCrAlY涂层高温氧化行为的影响)[J].材料导报,2022(17):81-85
A类：
CoNiCrAlY
B类：
预氧化,真空度,冷喷涂,层高,高温氧化行为,喷涂技术,层进,氧化处理,EDS,含氧量,孔隙率,致密度,Matrix,单相,结构转变,双相结构,涂层表面,面生,Al2,O3,氧化膜,氧化过程,TGO,生长速度,当真,Pa,晶粒,元素和,晶界,尖晶石氧化物,抗氧化性能,热生长氧化物
AB值：
0.261121
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
