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集成电光频率梳研究进展
文献摘要：
光学频率梳是由一系列离散且等间隔分布的频率成分所组成的光谱结构，作为光谱分析的天然刻度尺，其已广泛应用于光谱学、精密测量、光通信、传感等多个领域。光学频率梳根据其产生技术可分为基于锁模激光器的光学频率梳、克尔微腔光学频率梳、电光频率梳。电光频率梳由于其频率间隔可调、梳齿功率较高、可实现微波到光波的转换等优势，得到了充分发展。但传统电光频率梳的产生器件存在体积大、功耗高的缺点，限制了其进一步应用。随着微纳加工技术的不断发展，越来越多的材料应用于片上集成光学器件，包括硅、氮化硅、氮化铝、磷化铟、铌酸锂、砷化铝镓等。集成电光频率梳器件具有体积小、功耗低等优势，是构建光电集成芯片的重要器件。文中旨在对集成电光频率梳的研究现状进行综述，首先介绍光学频率梳的类型，并详细论述电光频率梳的产生机制；其次介绍产生集成电光频率梳的材料平台、相应的光梳性能指标及其应用；最后基于目前集成电光频率梳领域存在的问题，对未来的研究趋势做出展望。
文献关键词：
光学频率梳;电光调制;集成光学
中图分类号：
作者姓名：
刘鹏飞;任麟昊;闻浩;施雷;张新亮
作者机构：
华中科技大学 武汉光电国家研究中心，湖北 武汉 430074;湖北光谷实验室，湖北 武汉 430074
文献出处：
引用格式：
[1]刘鹏飞;任麟昊;闻浩;施雷;张新亮-.集成电光频率梳研究进展)[J].红外与激光工程,2022(05):
A类：
B类：
光频,光学频率梳,分所,光谱分析,刻度尺,光谱学,精密测量,光通信,产生技术,锁模激光器,克尔,微腔光学,频率间隔,梳齿,功率较,光波,产生器,功耗,微纳加工技术,材料应用,片上集成,集成光学器件,氮化硅,氮化铝,磷化铟,铌酸锂,体积小,光电集成,集成芯片,细论,产生机制,光梳,研究趋势,出展,电光调制
AB值：
0.301258
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