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高能电子束电磁透镜的研究进展
文献摘要：
在电子束加工设备中,聚焦系统和偏转系统是决定电子枪性能的关键因素.介绍了电子束聚焦、偏转技术的原理和特点,归纳整理了电磁透镜结构的优化结果、电子束聚焦规律以及减小束斑像差控制等方面所取得的研究进展.分析了目前电磁透镜控制电子束加工中存在的不足,并对未来电子枪发展趋势做出了展望.
文献关键词：
电子束;聚焦系统;偏转系统;电磁透镜;束斑像差
中图分类号：
作者姓名：
唐腾飞;刘海浪;岳高;唐杰;宁蔚;刘坤明;骆玉城
作者机构：
桂林电子科技大学机电工程学院 桂林541004;桂林福达股份有限公司 桂林541199
文献出处：
引用格式：
[1]唐腾飞;刘海浪;岳高;唐杰;宁蔚;刘坤明;骆玉城-.高能电子束电磁透镜的研究进展)[J].真空科学与技术学报,2022(10):719-725
A类：
电磁透镜,磁透镜,束斑像差
B类：
高能电子束,加工设备,聚焦系统,偏转系统,电子枪,归纳整理,来电
AB值：
0.148866
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