典型文献
基于可视化的真空镀膜装备专利竞争技术分析
文献摘要：
针对当前中国精密真空镀膜装备技术与国外差距甚远,存在核心技术缺失、技术发展方向不明确、研发意愿不足等问题,基于可视化技术分析真空镀膜装备国内外专利信息.探索数据处理过程中,通过字段创建与组合以可视化解析当前专利态势和技术,聚焦技术壁垒背景下光学领域磁控溅射(MS)与半导体领域原子层沉积(ALD)国外重点装备制造厂商的技术关注,挖掘出关键部件专利布局、技术功效、专利空白、比较优势等竞争信息,由桑基图、实物图、簇状气泡图等可视化图像直观展现分析成果,以期为中国真空镀膜装备制造企业技术创新思路借鉴、企业并购、技术合作、人才引进及产业相关政策制定提供参考策略.
文献关键词：
数据可视化;真空镀膜;专利竞争;技术功效;光学镀膜;半导体镀膜
中图分类号：
作者姓名：
叶俊文;黎子辉;高峰;李晓刚;王鸿志
作者机构：
广东省中山市质量技术监督标准与编码所 中山 528403;华南理工大学 广州 510641;中山凯旋真空科技股份有限公司 中山 528478
文献出处：
引用格式：
[1]叶俊文;黎子辉;高峰;李晓刚;王鸿志-.基于可视化的真空镀膜装备专利竞争技术分析)[J].真空科学与技术学报,2022(06):422-429
A类：
半导体镀膜
B类：
真空镀膜,专利竞争,装备技术,外差,甚远,技术发展方向,可视化技术,专利信息,探索数据,字段,可视化解析,专利态势,技术壁垒,下光,磁控溅射,半导体领域,原子层沉积,ALD,制造厂商,挖掘出,关键部件,专利布局,技术功效,利空,比较优势,桑基图,实物图,气泡图,观展,装备制造企业,企业技术创新,创新思路,企业并购,技术合作,人才引进,数据可视化,光学镀膜
AB值：
0.423191
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