典型文献
高分散稳定性CeO2抛光液的制备及其抛光性能研究
文献摘要：
通过湿固相机械法制备CeO2悬浮液.在不同温度下焙烧Ce2(C03)3制备CeO2粉末,以无机酸作为分散剂,采用湿式球磨的方法进行CeO2的分散,分别研究了分散剂的种类、料球比以及球磨液的pH值等因素对悬浮液分散性能的影响.结果表明,随着焙烧温度的升高,制备的CeO2粉末的团聚程度先降低后升高.采用硝酸为新型分散剂,当焙烧温度为900℃、球磨液pH为2、料球质量比为1∶4时,所得CeO2的平均粒径(D50)为230 nm.以此CeO2悬浮液作为磨料,在磨料质量分数为1％、pH为5条件下,SiO2材料的抛光速率可达248.9 nm/min,抛光后表面均方根粗糙度(RMS)为0.588 nm.研究结果可以对碳酸铈直接制备氧化铈悬浮液短流程开发提供参考.
文献关键词：
CeO2;抛光液;球磨;化学机械抛光
中图分类号：
作者姓名：
杨朝霞;张保国;阳小帆;李烨;李浩然
作者机构：
河北工业大学电子信息工程学院,天津 300130;河北工业大学天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130
文献出处：
引用格式：
[1]杨朝霞;张保国;阳小帆;李烨;李浩然-.高分散稳定性CeO2抛光液的制备及其抛光性能研究)[J].稀土,2022(02):128-136
A类：
料球比
B类：
高分散,分散稳定性,CeO2,抛光液,抛光性能,机械法,悬浮液,Ce2,C03,无机酸,分散剂,湿式,球磨,分散性能,焙烧温度,团聚,先降,平均粒径,D50,磨料,SiO2,抛光速率,粗糙度,RMS,碳酸铈,氧化铈,短流程,流程开发,化学机械抛光
AB值：
0.389517
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