典型文献
面向光刻机晶圆台的超精密光栅定位技术
文献摘要：
光栅干涉仪凭借高精度和高鲁棒性,成为先进节点光刻机中的重要定位装置.针对14 nm及以下节点光刻机晶圆台的定位需求,综述了多自由度纳米/亚纳米测量精度的零差式和外差式光栅干涉仪的发展,并介绍了"四光栅-四读数头"的光刻机六自由度位移测量系统布局.为了获得更高的精度和可溯源性,综合分析了光栅干涉仪中的环境误差、安装误差和仪器内在误差,并提出了光栅干涉仪实现亚纳米测量精度的关键问题,期望为光栅干涉仪精度提升和系统搭建提供初步指导.
文献关键词：
光学设计;光刻机;精密定位;光栅干涉仪;位移测量
中图分类号：
作者姓名：
朱俊豪;汪盛通;李星辉
作者机构：
清华大学深圳国际研究生院,广东深圳518055;清华-伯克利深圳学院,广东深圳518055
文献出处：
引用格式：
[1]朱俊豪;汪盛通;李星辉-.面向光刻机晶圆台的超精密光栅定位技术)[J].激光与光电子学进展,2022(09):310-326
A类：
B类：
向光,光刻机,晶圆,圆台,超精密,定位技术,光栅干涉仪,高鲁棒性,定位装置,多自由度,亚纳,纳米测量,测量精度,外差,四读,读数,数头,六自由度,位移测量系统,系统布局,可溯源,溯源性,安装误差,精度提升,系统搭建,光学设计,精密定位
AB值：
0.345977
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