典型文献
铜构件磁控溅射多层膜及其耐蚀性
文献摘要：
先在铜基体上电镀Ni层,接着溅射沉积Ni–Cr和Ni–Cr–Al–Si合金薄膜.对比了Ni层、Ni/Ni–Cr复合膜层和Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层的相结构、微观形貌和耐蚀性.结果表明,Ni电镀层表面光滑,Ni/Ni–Cr复合膜层和Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层表面都由致密、连续的团簇颗粒组成.铜基体与Ni电镀层之间、Ni电镀层与溅射沉积薄膜之间都紧密结合.3种试样在海水中的腐蚀机制相同,Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层的耐蚀性最佳.
文献关键词：
铜;电沉积;磁控溅射;镍-铬合金;镍-铬-铝-硅合金;多层膜;微观结构;耐蚀性
中图分类号：
作者姓名：
温佳源;宋贵宏;赵鑫;贺春林
作者机构：
沈阳工业大学材料科学与工程学院,辽宁沈阳 110870;沈阳大学辽宁省先进材料重点实验室,辽宁沈阳 110044
文献出处：
引用格式：
[1]温佳源;宋贵宏;赵鑫;贺春林-.铜构件磁控溅射多层膜及其耐蚀性)[J].电镀与涂饰,2022(01):18-22
A类：
B类：
磁控溅射,多层膜,耐蚀性,铜基体,电镀,溅射沉积,Si,金薄膜,复合膜层,相结构,微观形貌,镀层,表面光,团簇,颗粒组成,腐蚀机制,电沉积
AB值：
0.201582
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