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入射能量对外延生长Cr薄膜表面粗糙度和膜基结合强度的影响:分子动力学模拟
文献摘要：
过渡层是改善膜基关系,提升薄膜质量的关键因素.本文针对常见过渡层材料Cr的外延生长过程进行了分子动力学模拟.通过对沉积过程中薄膜的表面形貌、粗糙度、径向分布函数以及膜基结合强度进行分析,研究了入射能量对薄膜质量的影响.结果表明:沉积初期,膜基界面相互作用是影响薄膜生长方式的主要因素;随入射能量升高,表面粗糙度上升,薄膜由层状生长转变为岛状生长;随沉积过程进行,低能沉积(15～50eV)时薄膜表面粗糙度逐渐升高,而高能沉积(75eV)时在刻蚀作用下表现出相反趋势,表面粗糙度逐渐降低;同时,较低能量范围沉积时膜基界面在浅注入作用下被破坏,削弱了膜基结合强度;进一步提高沉积可通过形成成分梯度层,改善膜基结合效果.本文的研究结果对于薄膜沉积过程具有重要指导意义:镀膜过程中提高入射能量并不一定能起到积极效果,沉积粒子能量必须控制在合适的范围.
文献关键词：
入射能量;生长模式;表面粗糙度;结合强度;分子动力学
中图分类号：
作者姓名：
胡天时;田修波;刘向力;巩春志
作者机构：
哈尔滨工业大学 先进焊接与连接国家重点实验室,黑龙江 哈尔滨 150000;哈尔滨工业大学(深圳)材料科学与工程学院 深圳航空航天检测与成像工程实验室,广东 深圳 518055
文献出处：
引用格式：
[1]胡天时;田修波;刘向力;巩春志-.入射能量对外延生长Cr薄膜表面粗糙度和膜基结合强度的影响:分子动力学模拟)[J].真空,2022(03):35-40
A类：
50eV,75eV
B类：
入射能量,外延生长,表面粗糙度,膜基结合强度,分子动力学模拟,过渡层,薄膜质量,生长过程,沉积过程,表面形貌,径向分布函数,界面相互作用,薄膜生长,层状,刻蚀,低能量,薄膜沉积,镀膜,并不一定,定能,生长模式
AB值：
0.227803
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