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集成电路制造企业研磨废水处理实验研究
文献摘要：
利用Fe3O4磁种对集成电路制造企业研磨废水进行絮凝法处理,具有较好的沉降效果.最佳处理实验条件为:系统pH为3.0或4.0、外加磁场强度为0.20 T、Fe3O4磁性颗粒重复利用2次、Fe3O4投加量为6 g,此时系统浊度和总硅去除率分别可达99.22％与99.79％.江苏某集成电路制造企业采用Fe3O4磁种絮凝法工艺对研磨废水进行处理,年运行费用可节约40万元,经济效益显著.
文献关键词：
研磨废水;絮凝法;Fe3O4磁种
中图分类号：
作者姓名：
徐子义;盛勇;柳晋清
作者机构：
苏州瑞赛泽环境设计工程有限公司,江苏苏州 215000;常州常大创业环保科技有限公司,江苏常州213161;江苏鑫翰环境监测科技有限公司,江苏盐城 224200
文献出处：
引用格式：
[1]徐子义;盛勇;柳晋清-.集成电路制造企业研磨废水处理实验研究)[J].环境保护与循环经济,2022(08):28-31
A类：
B类：
集成电路制造企业,研磨废水,废水处理,Fe3O4,磁种,絮凝法,实验条件,外加磁场,磁场强度,磁性颗粒,粒重,重复利用,投加量,浊度,去除率,年运行费用
AB值：
0.258222
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