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g-C3N4制备方法及其光催化性能提升途径的研究进展
文献摘要：
聚合物半导体g-C3N4因较窄带隙、稳定性高、成本低等特点而在污染物降解和清洁能源生产方面引起了广泛关注.但纯g-C3N4光催化剂电荷分离率低、电荷重组率高等缺点导致其光催化能力不理想,因此改善g-C3N4的光催化性能是目前光催化领域的研究热点.通过构造异质结、元素掺杂等改性手段制备的g-C3N4基光催化剂增强了对可见光的吸收,光催化能力强,拥有较好的工业应用前景.本工作首先简单介绍了g-C3N4基光催化剂的研究现状,其次概述了其制备方法的研究现状并介绍了几种制备g-C3N4工艺及特点,说明了应用不同制备工艺时应注意的问题.此外对其光催化性能提升途径的机理进行阐述,并且指明了发展方向,最后进行总结和展望.在后续研究中,若能有效结合材料科学与环境科学的优势,开发结构稳定和光催化性能优异的g-C3N4基光催化复合材料对提高其实际价值具有重要意义.
文献关键词：
g-C3N4;光催化;性能提升;制备方法
中图分类号：
作者姓名：
杜含笑;季娟;秦辰伟;张泽;李锋锋;沈毅
作者机构：
华北理工大学材料科学与工程学院,河北唐山063210;河北省无机非金属材料实验室,河北唐山063210;河北省唐山市陶瓷产业技术研究院,河北唐山063210;华北理工大学新材料产业技术研究院,河北唐山063210;唐山市环境功能材料重点实验室,河北唐山063210
文献出处：
引用格式：
[1]杜含笑;季娟;秦辰伟;张泽;李锋锋;沈毅-.g-C3N4制备方法及其光催化性能提升途径的研究进展)[J].过程工程学报,2022(02):162-175
A类：
B类：
C3N4,制备方法,光催化性能,性能提升,提升途径,途径的研究,较窄,窄带隙,污染物降解,清洁能源,光催化剂,电荷分离,分离率,荷重,光催化能力,异质结,元素掺杂,改性手段,可见光,工业应用,制备工艺,应注意的问题,有效结合,结合材料,材料科学,环境科学,发结,结构稳定,光催化复合材料,实际价值
AB值：
0.283563
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