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多靶强流铯溅射离子源的研制
文献摘要：
多靶强流铯溅射离子源是多种加速器中常用的离子源之一,在科学研究和工业生产领域的应用十分广泛.但是,目前商业化应用的该种离子源由欧美几个国家垄断,国内还没有厂家能够生产.为了提高加速器运行和建造中的自主化水平,研制了一种多靶强流铯溅射离子源.该离子源主要由离子源腔、换靶装置、冷却系统、控制箱等组成,根据功能需求对其关键部件进行结构设计,采用了全新的伺服电机驱动换靶方式,提供靶位微调功能和远程控制模式,并使用Opera-3D软件模拟优化结构参数和束流光路.经过测试,该离子源在中国原子能科学研究院的400 kV小型加速器质谱(AMS)装置上应用情况良好,换靶定位精准,供束稳定,束流参数达到进口离子源的参数指标,实现了预期目标.
文献关键词：
多靶位;溅射离子源;结构设计;模拟分析
中图分类号：
作者姓名：
郭巍;李康宁;游曲波;彭立波;许波涛;何明;胡跃明;包轶文;胡畔;邵斌
作者机构：
中国原子能科学研究院,北京102413;中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙410111
文献出处：
引用格式：
[1]郭巍;李康宁;游曲波;彭立波;许波涛;何明;胡跃明;包轶文;胡畔;邵斌-.多靶强流铯溅射离子源的研制)[J].原子核物理评论,2022(03):311-316
A类：
溅射离子源
B类：
生产领域,商业化应用,该种,厂家,高加速,自主化,换靶,冷却系统,控制箱,功能需求,关键部件,伺服电机,电机驱动,靶方,微调功能,远程控制,控制模式,Opera,软件模拟,模拟优化,优化结构,束流,流光,光路,原子能科学,科学研究院,kV,加速器质谱,AMS,参数指标,预期目标,多靶位
AB值：
0.387304
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