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光亮剂对锂电铜箔表面质量的影响研究
文献摘要：
采用电沉积法在CuSO4/H2SO4体系中制备锂离子电池负极集流体铜箔材料,对光亮剂聚异硫脲丙磺酸内盐(UPS)、3-巯基-1-丙磺酸钠(MPS)、N,N-二甲基二硫代甲酰胺丙烷磺酸钠(DPS)和醇硫基丙烷磺酸钠(HP)在电解铜箔中的应用进行了研究.结果表明:MPS和HP的光亮效果最明显,导致铜箔粗糙度明显降低,表面形貌均匀,但HP和MPS过量会使抗拉强度降低;DPS提高光泽度和降低粗糙度的效果都相对较差,过量使抗拉强度明显降低;UPS几乎没有光亮效果,对抗拉强度和断裂延伸率影响也不明显.
文献关键词：
电解铜箔;光泽;表面形貌;光亮剂;抗拉强度
中图分类号：
作者姓名：
宋言;朱若林;林毅;代泽宇
作者机构：
江西铜业技术研究院有限公司,江西 南昌 330096
文献出处：
引用格式：
[1]宋言;朱若林;林毅;代泽宇-.光亮剂对锂电铜箔表面质量的影响研究)[J].铜业工程,2022(03):6-9
A类：
B类：
光亮剂,锂电铜箔,表面质量,电沉积法,CuSO4,H2SO4,锂离子电池负极,集流体,箔材,硫脲,内盐,UPS,巯基,磺酸钠,MPS,二甲基二硫,甲酰胺,丙烷,DPS,硫基,HP,电解铜箔,铜箔粗糙度,表面形貌,抗拉强度,高光泽,光泽度,低粗糙度,断裂延伸率
AB值：
0.366627
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