典型文献
多孔硅掺杂的光学薄膜制备及发光性能分析
文献摘要：
以提升硅的发光性能为目的,研究多孔硅掺杂的光学薄膜制备及发光性能.利用化学水沉积法,在多孔硅内掺杂硫化镉(CdS)金属,制备多孔硅掺杂的光学薄膜,并利用量子限制模型研究多孔硅掺杂的光学薄膜发光机理.通过光致发光测试仪与荧光/磷光分光光度计分析薄膜发光性能.结果显示:未进行金属掺杂的多孔硅内空隙较多,多孔硅掺杂的光学薄膜内空隙较小,空隙率随腐蚀处理时间延长逐渐下降.
文献关键词：
多孔硅;金属掺杂;光学薄膜;发光性能;Cd;电流密度
中图分类号：
作者姓名：
兰慧琴
作者机构：
福建船政交通职业学院 机械与智能制造学院,福建 福州 350007
文献出处：
引用格式：
[1]兰慧琴-.多孔硅掺杂的光学薄膜制备及发光性能分析)[J].兰州工业学院学报,2022(04):38-42
A类：
B类：
多孔硅,硅掺杂,光学薄膜,薄膜制备,发光性能,化学水,水沉,沉积法,硫化镉,CdS,薄膜发光,发光机理,光致发光,测试仪,磷光,分光光度计,金属掺杂,空隙率,腐蚀处理,处理时间,电流密度
AB值：
0.257042
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