典型文献
不同掺量YF3氟化物助剂对Si3N4显微结构及热导率的影响
文献摘要：
通过加入不同含量的YF3氟化物助剂,在1900℃/1 MPa N2压力下保温4 h,以研究YF3含量差异对于Si3N4显微结构及热导率的影响.结果表明,少掺量的YF3助剂对Si3N4的致密过程基本没有影响,但能较明显促进晶粒的生长从而提高热导率;当加入大掺量YF3时,致密过程因为气体物质的生成及助剂本身的挥发而受到一定抑制,由此引发较多的气孔,但因为大掺量YF3组的晶粒尺寸更大,样品最终的热导率也更大,最高达到了81.88 W/(m-1·K-1).
文献关键词：
氮化硅(Si3N4);YF3氟化物助剂;热导率
中图分类号：
作者姓名：
吕东霖;黄念胜
作者机构：
广东工业大学机电工程学院,广东广州510006
文献出处：
引用格式：
[1]吕东霖;黄念胜-.不同掺量YF3氟化物助剂对Si3N4显微结构及热导率的影响)[J].机电信息,2022(10):18-21
A类：
B类：
不同掺量,YF3,氟化物,助剂,Si3N4,显微结构,热导率,N2,含量差异,高热,大掺量,体物,气孔,晶粒尺寸,氮化硅
AB值：
0.252461
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