典型文献
高纯四氟化硅中金属杂质及硫化氢的测定研究
文献摘要：
研究了高纯四氟化硅中金属杂质的电感耦合等离子质谱仪(ICP-MS)检测方法和硫化氢杂质的离子色谱(IC)检测法进行研究,结果表明,高纯四氟化硅中金属离子含量的RSD在1.41％～2.62％,回收率在96.46％～100.2％;H2S的RSD在1.42％,回收率在93.6％～92.3％,均满足RSD<3％,回收率在80％～120％的要求.该方法具有高精确度、高灵敏度、低成本等优点,可为高纯四氟化硅的纯化工艺研发及产业化提供可靠的工作基础.
文献关键词：
高纯四氟化硅;金属杂质;硫化氢;测定方法
中图分类号：
作者姓名：
栗广奉;许胜霞;郑安雄
作者机构：
浙江中宁硅业有限公司,浙江 衢州 324000
文献出处：
引用格式：
[1]栗广奉;许胜霞;郑安雄-.高纯四氟化硅中金属杂质及硫化氢的测定研究)[J].化工生产与技术,2022(02):43-46
A类：
高纯四氟化硅
B类：
中金,金属杂质,硫化氢,测定研究,电感耦合等离子质谱仪,ICP,离子色谱,检测法,金属离子含量,RSD,H2S,高精确度,高灵敏度,纯化工艺,测定方法
AB值：
0.21765
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