典型文献
国内某重点企业化学机械抛光液相关专利技术分析
文献摘要：
化学机械抛光是半导体先进制程中的关键技术,化学机械抛光液是影响化学机械抛光效果的重要因素之一.对国内某重点企业的化学机械抛光液在申请态势、地域分布、应用对象、技术分支以及重点专利等方面进行分析,并对企业的专利布局和应急策略提出了建议.
文献关键词：
化学机械抛光;专利分析
中图分类号：
作者姓名：
姜小青;史巍;秦珊
作者机构：
国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心,北京100160
文献出处：
引用格式：
[1]姜小青;史巍;秦珊-.国内某重点企业化学机械抛光液相关专利技术分析)[J].精细与专用化学品,2022(09):1-4
A类：
B类：
重点企业,企业化,化学机械抛光,抛光液,专利技术分析,光是,制程,光效,地域分布,技术分支,专利布局,应急策略,专利分析
AB值：
0.284651
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