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UV/H_2O_2高级氧化去除饮用水中抗生素的中试试验
文献摘要:
近年来在水环境中不断检出抗生素,饮用水源也受到一定程度影响,并成为供水行业关注热点。 本研究选取磺胺类、喹诺酮类、四环素类、大环内酯类共4类11种原水检出频率高的抗生素为目标污染物,在水厂现有净水工艺去除效果评估基础上,开展UV/H_2O_2 高级氧化中试去除目标抗生素效果和影响因素的研究。 结果表明:UV/H_2O_2 高级氧化对目标抗生素去除率明显高于水厂现有常规和深度处理工艺;UV照射剂量对抗生素去除有一定影响,大部分目标抗生素去除率随UV剂量增加而提高,建议UV照射剂量为1 400~1 500 mJ/cm2;在H_2O_2 投加量为1. 5~3. 0 mg/L,目标抗生素去除率随投加量增加略有提高,但H_2O_2利用率显著下降,最佳投加量为3. 0 mg/L;在pH值为6~8,11种目标抗生素去除率随pH升高明显降低,表明UV/H_2O_2 高级氧化在偏酸性条件下去除抗生素效率更高,具体最佳pH尚需进一步试验。
文献关键词:
饮用水;抗生素;高级氧化;紫外线;过氧化氢;中试试验
中图分类号:
作者姓名:
叶辉
作者机构:
上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司,上海 200082
文献出处:
引用格式:
[1]叶辉-.UV/H_2O_2高级氧化去除饮用水中抗生素的中试试验)[J].净水技术,2022(10):43-48,106
A类:
去除效果评估
B类:
UV,2O,高级氧化,氧化去除,中试试验,饮用水源,供水行业,磺胺类,喹诺酮类,四环素类,大环内酯类,原水,水厂,净水工艺,抗生素去除,去除率,深度处理工艺,照射剂量,有一定影响,mJ,投加量,加略,高明,酸性条件,下去,尚需,紫外线
AB值:
0.252523
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