典型文献
化学沉淀-纳米吸附工艺深度处理含氟废水
文献摘要：
半导体生产过程中会产生大量含氟废水,传统双钙法除氟工艺对氟的去除程度有限,不能满足日益严格的废水排放标准.为满足出水低于1.5 mg/L的深度除氟要求,对化学沉淀-纳米材料吸附组合工艺深度处理半导体企业含氟废水进行了系统性研究.通过控制变量实验考察了不同初始pH、药剂量、氟浓度、上柱液pH、共存离子对除氟效果的影响,并进行中试扩大实验研究了吸附材料的再生条件以及稳定性能.结果表明,综合考虑出水氟离子浓度与药剂成本等因素,在调节反应初始pH为8.5,并投加自制铝盐为主的沉淀剂160 mg/L条件下,出水氟离子可降到3 mg/L以下.然后过滤并调节上柱液pH至3.0进行纳米材料吸附除氟,最终出水氟离子可稳定达到1.5 mg/L以下,符合《地表水环境质量标准》(GB 3838—2002)Ⅳ类标准.最后,选择质量分数高于4％的NaOH溶液作脱附剂,可实现吸附材料的再生.
文献关键词：
含氟废水;深度处理;化学沉淀;纳米材料吸附
中图分类号：
作者姓名：
卢永;冯向文;汪林;张孝林;张炜铭;吕振华;贾如雪;黄如全
作者机构：
南京大学环境学院,污染控制与资源化研究国家重点实验室,江苏南京 210023;江苏南大环保科技有限公司,国家环境保护有机化工废水处理与资源化工程技术中心,江苏南京 210046
文献出处：
引用格式：
[1]卢永;冯向文;汪林;张孝林;张炜铭;吕振华;贾如雪;黄如全-.化学沉淀-纳米吸附工艺深度处理含氟废水)[J].工业水处理,2022(07):75-79
A类：
纳米材料吸附
B类：
化学沉淀,深度处理,含氟废水,钙法,除氟工艺,废水排放,排放标准,组合工艺,半导体企业,系统性研究,控制变量,共存离子,离子对,中试,扩大实验,吸附材料,稳定性能,水氟,氟离子,离子浓度,调节反应,铝盐,沉淀剂,地表水环境质量标准,NaOH,脱附
AB值：
0.295702
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
