典型文献
UV/CeO2耦合Oxone深度处理制药废水的研究
文献摘要：
本研究通过简便的水热和煅烧两步法合成了CeO2,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)对CeO2的微观形貌和晶型结构进行了表征;为提高实际制药废水深度氧化处理的效果,Oxone试剂被引入UV/CeO2氧化体系.研究结果表明,UV辐照协同CeO2可高效活化Oxone试剂产生SO4·-、SO5·-和·OH等多种活性氧化物质,实现制药废水深度氧化的目的;溶液pH、Oxone用量、CeO2用量、反应温度等因素影响制药废水COD和TOC的去除效果,在制药废水初始COD为326 mg/L、TOC为132.6 mg/L、Oxone质量浓度为1.0 g/L、CeO2质量浓度为0.6 g/L、pH为6.86、温度为30℃、反应时间为60 min时,UV/CeO2耦合Oxone氧化工艺对实际制药废水COD的去除率达到90.21％,TOC去除率为76.99％.UV/CeO2耦合Oxone氧化具有潜在的工业应用前景.
文献关键词：
紫外光;二氧化铈;Oxone试剂;制药废水
中图分类号：
作者姓名：
王文富;华琼;王程豫;赵晓辉;郑宾国
作者机构：
上蔡县环境监测站,河南驻马店 463800;郑州航空工业管理学院土木建筑学院,河南郑州 450015
文献出处：
引用格式：
[1]王文富;华琼;王程豫;赵晓辉;郑宾国-.UV/CeO2耦合Oxone深度处理制药废水的研究)[J].工业水处理,2022(06):146-150
A类：
Oxone,SO5
B类：
UV,CeO2,深度处理,水热,煅烧,两步法,微观形貌,晶型结构,高实,实际制药废水,水深,深度氧化,氧化处理,氧化体系,辐照,SO4,活性氧化物,反应温度,COD,TOC,去除效果,氧化工艺,去除率,工业应用,紫外光,二氧化铈
AB值：
0.235865
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