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衬底温度对铜爆炸箔微观结构及电爆性能的影响
文献摘要：
为研究衬底温度对铜爆炸箔微观结构及电爆炸性能的影响,采用磁控溅射在不同衬底温度下制备了铜膜,并采用光刻技术制备了铜爆炸箔.通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针电阻率测试仪对铜膜进行了表征,并采用自主搭建的电爆炸测试系统对爆炸箔的电爆炸性能进行了测试.结果表明:随着衬底温度升高,铜膜的内应力和位错密度大幅降低,晶粒尺寸逐渐增大,电阻率先大幅降低后小幅升高;衬底温度为150℃时制备的爆炸箔的峰值功率、能量利用率、沉积能量最优.
文献关键词：
铜爆炸箔;磁控溅射;电爆炸;衬底温度
中图分类号：
作者姓名：
周全;陈航;唐书缘;代波;任勇
作者机构：
西南科技大学环境友好能源材料国家重点实验室,四川绵阳,621010;天府兴隆湖实验室,四川成都,610000
文献出处：
引用格式：
[1]周全;陈航;唐书缘;代波;任勇-.衬底温度对铜爆炸箔微观结构及电爆性能的影响)[J].火工品,2022(06):14-18
A类：
铜爆炸箔
B类：
衬底温度,电爆性能,电爆炸,爆炸性能,磁控溅射,光刻技术,原子力显微镜,AFM,四探针,电阻率,测试仪,测试系统,内应力,位错密度,晶粒尺寸,小幅,峰值功率,能量利用率,沉积能量,能量最优
AB值：
0.242734
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