典型文献
粒度调控对钡-钨阴极表面发射微区的影响
文献摘要：
为了在微米尺度探究未分级钨粉、分级钨粉制备的钨基体在阴极热电子发射性能上的差异,深入了解阴极表面微区电子发射过程和阴极发射机理,采用新型深紫外激光发射电子显微镜/热发射电子显微镜系统(DUV-PEEM/TEEM)对2种钨粉制备的阴极表面进行了光电子、热电子成像分析.结果 显示,与未分级钨粉相比,分级钨粉制备的钨基体的显微组织更加均匀,且闭孔率由1.44％降至0.47％;光电子+热电子联合成像精确得出2种阴极的发射均主要集中于孔隙及孔隙中的活性物质上;通过热电子图像对比及分析表明,分级钨粉制备的阴极的热电子发射微区面积更大、分布更均匀;且在1050℃工作条件下,分级钨粉制备的阴极的脉冲电流密度为30.79 A/cm2,发射斜率为1.38;综合分析显示,其具备更理想的本征热电子发射能力和发射均匀性.
文献关键词：
热阴极;深紫外激光;光发射电子显微镜;热发射电子显微镜;电子发射
中图分类号：
作者姓名：
何学良;周增林;李艳;陈文帅;惠志林
作者机构：
有研工程技术研究院有限公司,北京101407;有研科技集团有限公司智能传感功能材料国家重点实验室,北京100088;北京有色金属研究总院,北京100088
文献出处：
引用格式：
[1]何学良;周增林;李艳;陈文帅;惠志林-.粒度调控对钡-钨阴极表面发射微区的影响)[J].稀有金属材料与工程,2022(01):280-285
A类：
光发射电子显微镜,热发射电子显微镜,PEEM,TEEM,发射均匀性
B类：
粒度调控,表面发射,微区,微米尺度,未分,钨粉,极热,热电子发射性能,发射机,深紫外激光,激光发射,DUV,光电子,成像分析,显微组织,闭孔,孔率,联合成像,活性物质,子图像,工作条件,脉冲电流,电流密度,发射能力,热阴极
AB值：
0.225762
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