典型文献
基于分解多目标进化算法的光刻区调度方法
文献摘要：
针对晶圆制造系统光刻区调度问题,考虑设备专用性约束、掩膜版数量约束及设备加工能力约束,以最小化总完工时间和光刻成本、最大化晶圆准时交付率和设备利用率为目标,提出了基于分解多目标进化算法的光刻区调度方法.针对非支配前沿点分布不均的问题,设计了基于聚类分析的参考点生成方法;综合考虑非支配解的分布均匀性、收敛性及计算资源的合理分配,改进了惩罚边界交叉聚合函数;设计了外部档案变邻域搜索方法,提高算法的求解质量和收敛速度.24组基准算例和晶圆制造仿真系统连续12个月的测试结果表明:提出的分解多目标进化算法相对于多种多目标进化算法,能够取得更好的收敛性和解的多样性.
文献关键词：
晶圆制造系统;光刻区;多目标调度;分解多目标进化算法;聚合函数
中图分类号：
作者姓名：
张朋;张洁;王卓君;孙可芯
作者机构：
东华大学人工智能研究院,上海201620;东华大学机械工程学院,上海201620
文献出处：
引用格式：
[1]张朋;张洁;王卓君;孙可芯-.基于分解多目标进化算法的光刻区调度方法)[J].华中科技大学学报（自然科学版）,2022(04):26-32
A类：
光刻区,晶圆制造系统
B类：
基于分解,分解多目标进化算法,区调,调度方法,调度问题,专用性,掩膜,加工能力,能力约束,总完工时间,刻成,准时,交付,设备利用率,参考点,生成方法,非支配解,分布均匀性,收敛性,计算资源,合理分配,聚合函数,外部档案,变邻域搜索,搜索方法,收敛速度,基准算例,仿真系统,多目标调度
AB值：
0.264822
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