典型文献
氢氧化钾对PbS光学薄膜制备的影响
文献摘要：
以三水醋酸铅、硫脲、KOH等为原料,利用化学浴沉积法制备PbS光学薄膜.通过原子力显微镜、X射线衍射仪及扫描电镜仪等仪器,测试KOH的浓度及其水解时间对PbS光学薄膜的影响.实验结果表明:KOH水解时间越长,PbS光学薄膜水解层越厚,PbS基体越薄;PbS的断裂伸长率、拉伸断裂应力及拉伸强度随着 KOH 水解反应时间的增加而降低.当 KOH 的浓度为2 mol∕L时,生成晶体的规格最大、晶体结晶性能最优;当KOH的浓度为4 mol∕L时,PbS光学薄膜成膜速率最快.
文献关键词：
化学浴沉积法;水解时间;PbS晶体;Pbs薄膜;耐腐蚀性;成膜速率
中图分类号：
作者姓名：
兰慧琴
作者机构：
福建船政交通职业学院,福建 福州 350007
文献出处：
引用格式：
[1]兰慧琴-.氢氧化钾对PbS光学薄膜制备的影响)[J].重庆科技学院学报（自然科学版）,2022(06):84-88
A类：
Pbs
B类：
氢氧化钾,PbS,光学薄膜,薄膜制备,三水,醋酸铅,硫脲,KOH,化学浴沉积法,原子力显微镜,水解时间,断裂伸长率,拉伸断裂,拉伸强度,水解反应,结晶性能,成膜速率,耐腐蚀性
AB值：
0.232048
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