典型文献
基于深紫外激光器的大面积干涉光刻装置研究
文献摘要：
搭建了基于266 nm波长深紫外光源的干涉光刻装置,使用平顶光整形器将高斯光整形成平顶光束,在硅基底上制备出面积为8.9 mm×25.4 mm、周期为407 nm的一维光栅结构图形和周期为860 nm的二维孔洞结构.使用扫描电子显微镜(SEM)测量了平顶光产生的一维干涉结构的线宽、周期等参数,并与高斯光产生的一维干涉结构参数进行对比.实验结果表明,加入了平顶光整形器的干涉光刻装置产生的周期性光栅结构图形均匀性提升了21.36％.
文献关键词：
激光干涉光刻;平顶光;深紫外激光;光栅结构;微纳加工
中图分类号：
作者姓名：
张岭;胡海峰;顾亮亮;詹其文
作者机构：
上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海200093
文献出处：
引用格式：
[1]张岭;胡海峰;顾亮亮;詹其文-.基于深紫外激光器的大面积干涉光刻装置研究)[J].上海理工大学学报,2022(06):540-545
A类：
干涉光刻,激光干涉光刻
B类：
深紫外激光,紫外激光器,装置研究,紫外光源,光整,整形,高斯光,成平,平顶光束,硅基底,出面,一维光栅,光栅结构,结构图,孔洞结构,线宽,置产,微纳加工
AB值：
0.217778
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